Development of MeV ion beam lithography technique for microfluidic applications
Development of MeV ion beam lithography technique for microfluidic applications
Linkki verkkoaineistoon
(Turun yliopisto)
Tallennettuna:
| Ulkoasu |
Julkaistu myös verkkoaineistona ISBN 978-951-39-4267-0 (PDF) xii, 65, [56] s. : kuvitettu ; 25 cm |
|---|---|
| Kieli |
englanti |
| Alkuteoksen kieli |
englanti |
| Tiivistelmän kieli |
thai |
| Huomautukset |
Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 8 eripainosta. |
| Julkaisija |
Jyväskylä :
[University of Jyväskylä],
2011.
|
| Opinnäyte | Väitöskirja : Jyväskylän yliopisto, matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta, fysiikka |
| Sarja | Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä, ISSN 0075-465X; no. 3/2011. |
| Luokitus | |
| Aiheet | |
| Lisätiedot | by Nitipon Puttaraksa |
| ISBN |
978-951-39-4266-3 pehmeäkantinen |